研磨後的清洗
研磨是光學（xué）玻璃生（shēng）產中決定其加工效率和表麵質量（外觀和精度）的重要（yào）工序。研磨工序中的主要（yào）汙染物為研磨粉和瀝青，少數企（qǐ）業的加工過程中會有漆片。其中研磨粉的型號各（gè）異，一般是（shì）以（yǐ）二氧化鈰為主的（de）堿金屬氧化物。根（gēn）據鏡片的（de）材（cái）質及研磨（mó）精度不同，選擇（zé）不同型號的研磨粉。在研（yán）磨過（guò）程中使用的瀝青是起保護作用的，以防止拋光完的鏡（jìng）麵被劃傷或（huò）腐蝕。研磨後的清洗設備大致分為兩種（zhǒng）： 一種主要使用有機溶（róng）劑清洗劑，另一（yī）種主要（yào）使（shǐ）用半（bàn）水基清洗劑。
一、有機溶劑清洗采（cǎi）用的清洗流（liú）程如下:
有機溶劑清洗劑（超聲波）-水（shuǐ）基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-純水漂洗-IPA（異丙醇）脫水-IPA慢拉幹燥。
有機溶（róng）劑清洗劑的主要用途是清洗瀝青及漆片。以前的溶劑清洗劑（jì）多采用三氯乙烷或三氯（lǜ）乙烯。由於三氯乙烷屬ODS（消耗臭氧（yǎng）層物（wù）質）產品，目前處於強製淘汰階段；而長期使（shǐ）用三氯乙（yǐ）烯易導致（zhì）職業病（bìng），而且（qiě）由於三氯乙烯（xī）很不穩定，容易水解呈（chéng）酸性，因此會腐蝕鏡片（piàn）及（jí）設備。對此，國內的清洗劑廠家研製生產了非ODS溶劑型係列清洗劑，可用於清洗光學玻（bō）璃；並且該係列產品具備不同的（de）物化（huà）指標，可有（yǒu）效（xiào）滿足不（bú）同設（shè）備及工藝條件的要求。比如在少數企業的生（shēng）產過程中（zhōng），鏡片表麵有（yǒu）一層很難處理的漆片，要求使（shǐ）用具（jù）備特殊溶解性的有機溶劑；部分企業（yè）的清洗設備的溶劑清洗槽冷凝管（guǎn）較少，自由程很（hěn）短（duǎn），要（yào）求使用（yòng）揮發較慢的有機溶劑；另一部分企業則相反，要求使（shǐ）用揮發較快的有機溶劑等。
水基清洗劑的主要（yào）用途是清洗（xǐ）研磨粉。由於研磨粉是堿金屬氧化（huà）物，溶劑（jì）對其清洗能力很弱，所以鏡片加工過程中產生的研磨粉基本上是在水基清洗單（dān）元內除去的，故而對水（shuǐ）基清洗劑提出了極高的（de）要求。以前由於（yú）國內的光學玻璃專用水基清洗劑品種較少，很多外資企業都選用進口的清洗劑。而目前國（guó）內已有公司開發出光學玻璃清洗劑，並成功地應用在國內數家大型光學玻璃生產廠，清洗效果完全可以取代進口產品，在腐蝕性（防腐性能）等指標上更是優於進（jìn）口產品。
對於IPA慢拉幹（gàn）燥，需要說明的一點是，某些種類的鏡片幹燥後容易產生水印，這種現象一方麵與IPA的純度及空氣濕度有關，另一方麵與清洗設備有較大的關係，尤（yóu）其是雙臂（bì）幹燥的效果明顯不如單臂幹燥的（de）好，需要設備廠家及用（yòng）戶注意此（cǐ）點（diǎn）。
二（èr）、半水基清洗采用的清（qīng）洗流程如（rú）下:
半（bàn）水基清（qīng）洗劑（超聲波）-市水漂洗（xǐ）-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂洗-IPA脫（tuō）水-IPA慢拉幹燥
此（cǐ）種清洗工藝同溶劑清洗相比最（zuì）大的區（qū）別在於，其前（qián）兩個清洗單元（yuán）：有機溶（róng）劑清洗隻對瀝青或漆（qī）片具有良好的清洗效果，但卻無法清洗研磨粉等無機物；半水基清洗劑則不同（tóng），不但可以清洗瀝青（qīng）等有機汙染（rǎn）物，還對研（yán）磨粉等無機物（wù）有良好的清洗效果，從而大大減輕了後續（xù）清洗單元中（zhōng）水基（jī）清洗劑的（de）清洗壓力。
半水基清洗（xǐ）劑的特點是揮發速度（dù）很慢，氣味（wèi）小。采用（yòng）半水基清洗（xǐ）劑清洗的設備在第一個清洗單元中（zhōng）無需密封冷凝和蒸餾回收裝置。但由於半水（shuǐ）基清洗劑粘度較大，並且對後（hòu）續工序使用（yòng）的水（shuǐ）基清洗劑有乳化作用，所以第二（èr）個單元須市水漂（piāo）洗，並（bìng）且最好將其設為流水（shuǐ）漂洗。
國內應用此種工藝的企業（yè）不（bú）多，其中一個原因是半水基（jī）清洗劑多為進口，價（jià）格比較昂貴。從水基清洗單元（yuán）開始，半水基清洗工藝同溶劑清洗工藝基本相同。
三、兩種（zhǒng）清洗方式的比較
溶（róng）劑清洗（xǐ）是比較傳統（tǒng）的方（fāng）法，其優點是清洗速度快，效率比較高，溶劑本身可以不斷蒸（zhēng）餾再生，循環使用（yòng）；但缺點也比較明顯，由於光學玻璃的生產環境要求恒溫恒濕，均為封閉（bì）車間，溶劑的氣味對於工作環境多少都會有些影響，尤其是使（shǐ）用不封閉的半自動清洗設備時。
半水（shuǐ）基清洗（xǐ）是近年來逐漸發展（zhǎn）成熟的一種（zhǒng）新工藝，它是在傳統溶劑清洗的基礎上（shàng）進行改進而得（dé）來的。它有效地避免了溶劑的一些弱點，可以做到無毒，氣味輕微，廢液可排入汙水處理係統；設備（bèi）上的配套裝置更少；使用周期比溶劑要更長；在運（yùn）行（háng）成本上比（bǐ）溶（róng）劑更低。半水（shuǐ）基清洗劑最為突（tū）出的一個優點（diǎn）就是對於研磨粉等無機汙染（rǎn）物具有良好的清洗效果，極大（dà）地緩解了後續單元水（shuǐ）基清洗劑的清洗壓（yā）力，延長了水基清洗劑的使用壽命，減少了水基清洗劑的用量，降低了運行成本。缺點就是清洗的速度比溶劑稍慢，並且必（bì）須（xū）要進行漂洗。
